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同花顺300033)金融研究中心08月15日讯,有投资者向国林科技30078...
同花顺300033)金融研究中心08月15日讯,有投资者向国林科技300786)发问, 比较传统等离子蚀刻,臭氧蚀刻对基材损害更小,适用于高精度图形化工艺。削减热应力,防止第三代半导体资料(如碳化硅)因高温导致的晶格缺点。公司究竟有没有蚀刻工艺的臭氧设备?能否用于第三代半导体制作?
公司答复表明,敬重的投资者,您好。公司现在存在半导体专用臭氧体系设备能应用于蚀刻工艺、第三代半导体出产的根本工艺。感谢您的重视。
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RIE等离子刻蚀机的原理以及在半导体行业中的应用
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