什么是金属蚀刻？

  蚀刻是一种使用化学强酸腐蚀、机械抛光或电化学电解处理物体外表的技能。除了增强美感外，它还增加了产品的附加值。蚀刻技能的使用场景规模包含蚀刻加工使用范畴：电子消费范畴、过滤与别离技能、航空航天范畴、医疗设备、精细机械、轿车、高端工艺品等。

  那什么是金属蚀刻呢？金属蚀刻是一种经过化学反应或物理冲击去除剩余金属材料的技能。金属蚀刻技能可分为湿蚀刻和干蚀刻。金属蚀刻由一系列化学工艺组成。不同的蚀刻剂对不同的金属材料有不同的腐蚀特性和强度。

  金属蚀刻，又称光化学蚀刻，是指金属蚀刻区的保护膜在曝光、制版、显影、触摸化学溶液后去除，以抵达溶解腐蚀、构成凸点或挖空。最早用来制作铜板、锌板等印刷凹凸板，大规模的使用在减轻仪表板分量或加工铭牌等薄工件。经过技能和工艺设备的一直在改善，蚀刻技能已使用于航空、机械、化工、半导体制作工艺，加工电子薄精细金属蚀刻产品。

  湿蚀刻是将晶圆浸泡在适宜的化学溶液中，或将化学溶液喷射到晶圆上淬火，经过溶液与蚀刻物体的化学反应去除膜外表的原子，从而抵达蚀刻的意图。湿蚀刻时，溶液中的反应物首要经过阻滞边界层分散，然后抵达晶片外表，发生化学反应，发生各种产品。蚀刻化学反应的产品是液相或气相产品，然后经过边界层分散并溶解到主溶液中。湿蚀刻不只笔直蚀刻，并且具有水平蚀刻作用。

  干蚀刻通常是一种等离子蚀刻或化学蚀刻。由于蚀刻作用的不同，等离子体中离子的物理原子、活性自由基的化学反应以及设备（晶圆）的外表原子，或两者的组合，包含以下内容：

  干蚀刻是一种各向异性蚀刻，具有十分杰出的方向性，但选择性比湿蚀刻差。在等离子体蚀刻中，等离子体是一种部别离解的气体，气体分子被离解成电子、离子和其他具有高化学活性的物质。干蚀刻最大的长处是“各向异性蚀刻”。但是，（自由基）干蚀刻的选择性低于湿蚀刻。这是由于干蚀刻的蚀刻机理是物理相互作用；因而，离子的冲击不光能够去除蚀刻膜，还能够去除光刻胶掩模。