南京和显达微电子请求兼容CuMo及CuMTD的蚀刻液及其使用专利进步产品良品率

  国家知识产权局信息数据显现，南京和显达微电子科技有限公司请求一项名为“一种兼容Cu/Mo及Cu/MTD的蚀刻液及其使用”的专利，公开号CN121065701A，请求日期为2025年8月。

  专利摘要显现，本发明供给了一种兼容Cu/Mo及Cu/MTD的蚀刻液及其使用，所述蚀刻液包含主剂和辅剂；所述主剂以分量份数计包含氧化剂5-22份、有机酸1-15份、无机酸0.01-5份、有机碱0.5-15份、稳定剂0.01-5份、金属抑制剂0.01-1份和水1-100份。本发明供给的蚀刻液可以有用兼容Cu/Mo及Cu/MTD两种不同的金属结构，在蚀刻过程中对不同金属膜层都能完成杰出的蚀刻作用，减少了因蚀刻液兼容性差导致的蚀刻不良问题，进步了产品的良品率；对Cu/Mo及Cu/MTD合金双层膜等均具有优异才能的蚀刻功能，蚀刻后无残留，而且不会损坏玻璃基板等基底资料，满意了现代电子制作工艺对蚀刻液的高要求。

  天眼查资料显现，南京和显达微电子科技有限公司，成立于2021年，坐落南京市，是一家以从事科技推广和使用服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。经过天眼查大数据分析，南京和显达微电子科技有限公司参加招投标项目3次，此外企业还具有行政许可5个。

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