艾佛光通请求金属刻蚀气体残留的整理洗刷办法专利有用铲除金属刻蚀后难以去除的气体残留

  国家知识产权局信息数据显现，广州市艾佛光通科技有限公司请求一项名为“一种金属刻蚀气体残留的整理洗刷办法”的专利，公开号CN121054475A，请求日期为2025年9月。

  专利摘要显现，本请求供给了一种金属刻蚀气体残留的整理洗刷办法，触及半导体技术领域。经过将等离子炮击预处理、深度清洗以及湿法去胶、清洗和枯燥处理过程有机结合，构成一个系统性的多阶段清洗流程，然后有用铲除金属刻蚀后产生的各类残留物，特别是难以去除的气体残留，防止后腐蚀的产生，来提高半导体产品的质量和稳定性。

  天眼查资料显现，广州市艾佛光通科技有限公司，成立于2020年，坐落广州市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3422.4839万人民币。经过天眼查大数据分析，广州市艾佛光通科技有限公司共对外出资了2家企业，参加招投标项目10次，产业线条，此外企业还具有行政许可21个。

  声明：商场有危险，出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成，仅供参考，不构成个人出资主张。