宁波润华全芯微电子请求单片式湿法刻蚀办法专利改进晶圆刻蚀均匀性

  国家知识产权局信息数据显现，宁波润华全芯微电子设备有限公司请求一项名为“一种单片式湿法刻蚀办法”的专利，公开号CN121035021A，请求日期为2025年9月。专利摘要显现，本发明请求触及一种单片式湿法刻蚀办法，归于半导体制作及微纳加工技术领域，单片式湿法刻蚀办法有：在对一旋转的晶圆进行湿法刻蚀的过程中，操控一刻蚀液喷头在所述晶圆的外表上方移动，使得所述喷头在晶圆外表上方的径向方位产生显着的改变；其间，关于所述移动过程中的恣意两个不同的径向方位，所述喷头在间隔所述晶圆中心较远的径向方位上的移动速度，不小于其在间隔所述晶圆中心较近的径向方位上的移动速度；而且，所述移动速度在所述移动过程中不稳定。本发明请求可以改进晶圆刻蚀均匀性。

  天眼查资料显现，宁波润华全芯微电子设备有限公司，成立于2016年，坐落宁波市，是一家以从事专用设备制作业为主的企业。企业注册资本3584.0571万人民币。经过天眼查大数据分析，宁波润华全芯微电子设备有限公司参加招投标项目144次，产业线条，此外企业还具有行政许可22个。

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