离子束刻蚀机原理

  离子束刻蚀机原理是暴露在电子区域的气体构成等离子体，由此发生的电离气体和开释由高能电子组成的气体构成等离子体或离子体。当电离气体原子经过电场加快时，它会开释满足的力，并将资料或蚀刻外表与外表驱动力紧密结合。在某一些程度上，等离子体清洁本质上是等离子体蚀刻的一种细微状况。干蚀刻设备包含反响室、电源和真空部分。工件被送到真空泵的反响室。气体被引进并与等离子体交流。等离子体在工件外表反响，挥发性副产物被真空泵带走。等离子体蚀刻进程其实便是一个反响性等离子体的进程。开展是将货架安装在反响室中。用户可移除货架，装备恰当的等离子体蚀刻办法:反响等离子体(RIE)、顺流等离子体(downstream)、直接等离子体(directionplasma)。

  此外，离子束刻蚀机还具有无氟氯化碳和污水、操作和环境安全、消除有毒和腐蚀性液体等绿色长处。离子束刻蚀机支撑以下四种平面等离子体处理办法：

  直接形式-底片可直接放置在电极支架或底座支架上，以到达较大的平面蚀刻作用。