台积电等将受稀土控制新规冲击？台湾经济部否定

  据路透社报导，我国台湾经济部10月12日表明，我国大陆新推出的稀土出口控制方针将对岛内的芯片工业“没有严重影响”。

  10月9日，我国商务部发布了重要的公告，宣告对含有我国成分的部分境外稀土相关物项（价值份额到达0.1%及以上的，包含原产于我国的以及境外运用我国技能、设备出产的稀土）施行出口控制。一起，还宣告对部分稀土设备和原辅料相关物项施行出口控制。

  首先是一些光电芯片、射频芯片等新式芯片与器材，会用到钪、钕、铕、铥、铒、镱、铕和铽等稀土元素。

  比方，钪会被用于制备铝钪氮(AlScN)压电薄膜，这是5G射频BAW滤波器的中心资料，能显着提高滤波器的功能和频率稳定性。在光电器材方面，铒用于掺铒光纤放大器(EDFA)，是长距离通讯的中继器；镱常用于增强激光器的泵浦功率；铥则用于特定波长的激光器；钕是制作高功率激光器的要害增益介质；铕和铽也是重要的发光资料激活离子，用于显现和照明。

  比方，在化学机械抛光（CMP）环节，二氧化铈是晶圆外表平整化工艺的要害研磨剂，能完成高精度抛光；在先进制程晶体管栅极制作的完好过程中，会向高介电资猜中增加氧化钪等，以优化功能，下降漏电流；在光刻胶研制方面，铕的合作物被研讨用于极紫外（EUV）光刻胶，以增强对极紫外光的吸收和图画分辨率。

  第三，在半导体设备自身也会用到钕、钇、铥、镝、铽等稀土元素。比方，在刻蚀工艺维护方面，刻蚀机腔体内壁选用氧化钇陶瓷涂层，抵挡强腐蚀性等离子体，延伸设备寿数；光刻机、离子注入机等设备的纳米级精度运动渠道，依靠钕铁硼永磁体供给强磁场和驱动力；晶圆检测与对准体系运用钕掺杂的YAG激光器；EUV光刻时机运用铽镓石榴石作为光学隔离器的中心资料，维护激光器；现在一些前沿研讨也探究用铥激光器提高EUV光源功率。

  资料显现，除了一些光电芯片、射频芯片等新式芯片与器材，会用直接用到稀土资料之外，化学机械抛光、先进制程晶体管栅极制作、EUA光刻胶研制制作等方面，也会运用到稀土元素。 此外，一些刻蚀设备的腔体涂层，光刻机、离子注入机等设备的纳米级精度运动渠道，也依靠于钕铁硼永磁体供给强磁场和驱动力。EUV光刻时机运用铽镓石榴石作为光学隔离器的中心资料，维护激光器。

  《》也报导称，在曩昔的几年里，英伟达和其他半导体制作商改变了芯片上电力办理设备中运用的资料，称为电容器，以使其更耐热。而这些电容器就运用了超纯镝，即便在变热时也能坚持磁稳定性。现在，我国提炼了国际上 99% 的镝。

  鉴于我国大陆在全球稀土资料商场的垄断性供给位置，这也代表着许多的芯片制作商或许不能脱离我国的稀土资料，然后会遭到我国大陆的出口控制方针的影响。

  《》表明，我国的稀土出口控制新规将要求大多数芯片出产企业取得出口许可证才干在国际任何地方出售。这在某种程度上预示着它们能适用于出产国际上大部分先进逻辑芯片的台积电，以及韩国存储芯片制作商 SK 海力士和三星等公司。此外，还有报导称，ASML和TEL等半导体设备供给商也将处于该控制之中。

  对此，我国台湾经济部本周日表明，我国对稀土的新约束办法估计不会对我国台湾半导体工业发生严重影响，由于稀土与芯片职业所需的金属不同。

  我国台湾经济部在一份声明中表明，我国大陆扩令所包括的稀土元素与我国台湾半导体工艺所需的稀土项目不同，因而现在估计不会对芯片制作发生严重影响。但或许会影响电动汽车和无人机等产品的全球供给链，并弥补说需求重视其影响。

  该声明还弥补说，我国台湾半导体工业需求的含有稀土的产品或衍生物大多数来源于欧洲、美国和日本。