芯恩请求丈量刻蚀液刻蚀金属层速率办法和测验结构专利可确保金属层的厚度精确

  金融界2025年7月23日音讯，国家知识产权局信息数据显现，芯恩（青岛）集成电路有限公司请求一项名为“一种丈量刻蚀液刻蚀金属层速率的办法和测验结构”的专利，公开号CN120356838A，请求日期为2025年04月。

  专利摘要显现，本发明供给一种丈量刻蚀液刻蚀金属层速率的办法和测验结构，以硬掩膜层为对照，经过台阶丈量法丈量硬掩膜层和金属层之间的高度差，能确保金属层的刻蚀厚度精确，而且，多个测验结构可以进行不同时刻的湿法刻蚀，抵消掉屡次测验中影响测验结构的一起要素，能取得精确的湿法刻蚀速率；别的，测验结构中设置多个特征尺度不同的金属层，获取不同特征尺度金属层湿法刻蚀的拟合线斜率并对多个拟合线斜率求平均值，可以减小工艺过程中引进的差错，进一步提高金属刻蚀速率的丈量精确性。

  天眼查资料显现，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，坐落青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。经过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外出资了2家企业，参加招投标项目176次，产业线条，此外企业还具有行政许可56个。